Canon, het Japanse bedrijf dat wereldwijd bekend staat om zijn hoogwaardige camera’s en printers, heeft op vrijdag 13 oktober een baanbrekende innovatie gepresenteerd die de productie van geavanceerde halfgeleidercomponenten aanzienlijk zal verbeteren.
Sterke zet gedaan om concurrentie aan te gaan
Volgens een rapport van CNBC heeft Canon met zijn recentelijk geïntroduceerde ‘nanoimprint lithografie’-systeem een duidelijke zet gedaan om te concurreren met het Nederlandse bedrijf ASML, dat een dominante speler is in de extreem-ultraviolette (EUV) lithografiesector. ASML’s machinepark is van cruciaal belang voor de productie van geavanceerde chips, waaronder die welke worden gebruikt in de nieuwste Apple iPhones.
De inzet van deze machines is verweven met het technologische geschil tussen de Verenigde Staten en China. De Verenigde Staten hebben geprobeerd China’s toegang tot essentiële chips en productiemachines te beperken door middel van exportbeperkingen en diverse sancties, wat de vooruitgang van ‘s werelds op een na grootste economie op een gebied waar ze al achterlopen, aanzienlijk belemmert.
Enorme populariteit ASML’s EUV-technologie
ASML’s EUV-technologie heeft enorme populariteit verworven bij vooraanstaande chipfabrikanten vanwege de cruciale rol die ze speelt bij het mogelijk maken van halfgeleiderproductie op schalen van 5 nanometer en kleiner. De nanometermaatstaf verwijst naar de grootte van chipkenmerken, waarbij kleinere waarden meer kenmerken op een chip mogelijk maken, wat de prestaties van halfgeleiders verbetert.
Volgens berichten heeft Canon aangekondigd dat zijn nieuwe systeem, de FPA-1200NZ2C, halfgeleiders kan vervaardigen met een productieproces dat overeenkomt met 5 nanometer en dat zelfs kan worden teruggeschroefd naar 2 nanometer, wat de capaciteiten overtreft van de A17 Pro-chip die te vinden is in de iPhone 15 Pro en Pro Max van Apple, waarbij de laatste een halfgeleider van 3 nanometer gebruikt.
Verbod op export ASML naar China vanuit Nederlandse overheid
De Nederlandse overheid heeft eerder al exportbeperkingen opgelegd aan ASML, wat heeft geleid tot het stopzetten van de export van hun EUV-lithografiemachines naar China, waar tot op heden geen van deze machines is geleverd. Deze restricties zijn ingesteld vanwege de cruciale rol van deze machines in de productie van geavanceerde halfgeleiderchips.
Met de aankondiging van Canon dat hun nieuwe machine naar verluidt in staat is om de productie van halfgeleiders op een schaal van 2 nanometer te faciliteren, zal deze kwestie naar alle waarschijnlijkheid nog meer in de schijnwerpers komen te staan. Het is op dit moment nog onbekend of Canon een vergelijkbaar verbod opgelegd gaat krijgen.
Het bericht Nieuwe technologie van Canon concurreert met ASML op het gebied van chipproductie verscheen eerst op Newsbit.